会社名 | ジャパンクリエイト株式会社 |
---|---|
事業内容 | ■半導体製造装置の開発、製造 本社/所沢事業部:ウエハー洗浄機、エッチング装置、スピンドライヤーなど 流山事業部:プラズマCVD装置、スパッタリング装置、EB蒸着装置等など →研究用の小型機から量産用の自動装置まで対応。有機ELやLEDなどの洗浄装置も開発可能です。すべて自社内で製造しています。 シリコンウェーハのほかに、ガリウムヒ素(GaAs)・インジウムリン(InP)等の化合物半導体ウェーハから、サファイヤウェーハ、水晶・セラミック基板、またパワー半導体に使われる炭化ケイ素(SiC)・窒化ガリウム(GaN)ウェーハ向けの独自のウェット/ドライプロセスのトータルソリューションを提案いたします。 |
企業 WEBサイト |
http://www.japancreate.co.jp/ |
所在地 | 埼玉県所沢市林1丁目203番地4 |